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離子切割儀可以靈活選擇多種樣品臺，不僅適用于高通量實驗，也適合于特定制樣需求實驗室。離子切割配合不同的工作氣體可以切割各種氧氣切割難以切割的金屬，尤其是對于有色金屬（不銹鋼、鋁、銅、鈦、鎳）切割效果更佳。其主要優(yōu)點在于切割厚度不大的金屬的時候，離子切割速度快，尤其在切割普通碳素鋼薄板時，速度可達氧切割法的5-6倍、切割面光潔、熱變形小、較少的熱影響區(qū)。離子切割的主要切割規(guī)范簡述如下：1.空載電壓和弧柱電壓離子切割電源必須具有足夠高的空載電壓，才能容易引弧和使離子弧穩(wěn)定燃燒。空...

掃描電鏡樣品臺可直接利用樣品表面材料的物質性能進行微觀成像，掃描電鏡有較高的放大倍數且連續(xù)可調，是當今十分有用的科學研究儀器。對于它試驗的樣品來說有哪些要求呢？1.形態(tài)必須耐高真空如有些含水量很大的細胞，在真空中很快被抽干水分，細胞的形態(tài)也發(fā)生了改變，無法對各類型細胞進行區(qū)分。2.樣品表面不能含有有機油脂類污染物油污在電子束作用下易分解成碳氫化物，對真空環(huán)境造成極大污染。樣品表面細節(jié)被碳氫化合物遮蓋；碳氫化合物降低了成像信號產量；碳氫化合物吸附在電子束光路引起極大象散；碳氫化...

鍍膜儀是目前鍍膜行業(yè)應用廣泛的真空設備，隨著行業(yè)的發(fā)展，各種類型的鍍膜儀也在逐漸出現。但大部分人并不了解鍍膜儀的工作原理。鍍膜儀主要是由真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成。真空設備也分好多類型和型號，種類、用途不一樣，其型號也就不一樣，但它們的工作原理是相通和類似的。鍍膜儀的基本技術要求說明：1.設備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件（法蘭、密封圈等）的結構形式，應符合GB/T的規(guī)定。2.在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應安裝真空測量規(guī)管，分別測量各部位的真空度。當發(fā)現電...

離子研磨設備是一種用于材料科學領域的儀器，可用于SEM、EPMA和SAM的樣品制備，它可以制備軟的、硬的和復合材料的樣品，損傷、污染和變形可以控制得非常小。依靠離子束轟擊制備樣品剖面，觀察范圍大、清潔而且適用于幾乎所有材料。離子研磨設備可一步制備出鏡面樣品。它幾乎可以適用于各種材料，包括難以拋光的軟材料，如銅、鋁、金、焊料和聚合物等；以及難以切割的材料，如陶瓷和玻璃等。配套的高級CCD顯微鏡，可以準確地把樣品定位在幾個微米大小的剖面位置上。制備過程中，自動控制樣品搖擺，以避免...

真空鍍膜儀通過連續(xù)監(jiān)控在線生產來保證鍍膜產品的優(yōu)良性，提高車間生產線上的工作效率。鍍膜儀的種類多樣主要分為：蒸發(fā)真空鍍膜設備系列、離子真空鍍膜儀系列、磁控濺射真空鍍膜設備。由于真空鍍膜儀的應用非常的廣泛，目前已經滲透到車輛、土木建筑工程、機械、包裝、環(huán)境保護、醫(yī)藥及醫(yī)療器械、石油、化工、食品、光學、電氣、電子、原子能、半導體、航空航天、低溫、專用機械、紡織、造紙、農業(yè)以及民用工業(yè)等工業(yè)部門和科學研究工作中。真空鍍膜儀的應用是很復雜的，用戶需求掌握必定的操作常識，我們來一起學習...

鍍膜儀是一款多功能型高真空鍍膜系統(tǒng)，用于制備超薄，細顆粒的導電金屬膜和碳膜，以適用于超高分辨率分析所需的鍍膜要求。這一款全自動臺式鍍膜儀包含內置式無油真空系統(tǒng)石英膜厚監(jiān)控系統(tǒng)和馬達驅動樣品臺。真空電弧離子的原理是基冷陰極自持弧光放電結合脈沖技術及磁控濺射技術，使沉積粒子細化，膜層的各項性能得以提高。它不僅能在金屬制品表面進行鍍膜而且能在非金屬制品表面制品上進行鍍膜，可以鍍金屬膜、氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、及鈦、鎳、鉻、銅、等化合物膜、多層超硬膜、氮化鈦摻金膜和合金膜，并...

徠卡高真空鍍膜儀是磁控濺射、多弧離子、蒸發(fā)鍍膜的混合性設備，是在多弧離子鍍膜機的基礎上裝備圓柱靶或平面磁控靶，設備具有離子鍍的高離化率、高堆積速度的特色，一起也具有磁控濺射低溫、安穩(wěn)的長處，適合鍍各種復合膜。徠卡高真空鍍膜儀主要由真空鍍膜機室、真空抽氣機組限及電柜（控制電柜、電子槍電樞）組成，其廣泛應用于微電子、光學成膜、民用裝飾、表面工程等領域。在防止油污染和縮短工作周期等方面具有有效的性能。徠卡高真空鍍膜儀的主要結構講解：1.蒸騰與磁控濺射的混合設備：多功能，合適量產，適...